Nā ʻElemu Pumehana Graphite
Ma ke ʻano he mea hana Kina alakaʻi a me ka hale hana o nā Graphite Heating Elements, ʻo Semixlab Graphite Heating Elements nā ʻāpana thermal maʻemaʻe kiʻekiʻe i hoʻolālā ʻia no nā kaʻina hana semiconductor holomua, me Si, SiC, a me GaN epitaxy, a me ka hoʻolaha wela kiʻekiʻe a me ka oxidation. Hana ʻia no ka hana paʻa ma nā mahana kiʻekiʻe, hāʻawi kēia mau mea hoʻomehana graphite i ka like ʻana o ka thermal maikaʻi loa, ke kūpaʻa kemika, a me ke ola lawelawe lōʻihi i nā wahi vacuum, hydrogen, a me nā kinoea inert. Me nā hoʻolālā hiki ke hoʻopilikino ʻia a me nā uhi holomua koho, kākoʻo nā hoʻonā hoʻomehana graphite a Semixlab i ka hana hana mau, ka hoʻomaikaʻi ʻana i ka hua, a me ka hoʻemi ʻana i ke kumukūʻai holoʻokoʻa o ka loaʻa ʻana no nā mea hana lako semiconductor a me nā fabs.
Description
ʻO nā ʻElemene Hoʻomehana Graphite he mau ʻāpana wela koʻikoʻi i hoʻohana nui ʻia i ka hana semiconductor holomua, kahi e pono ai ka kaohi mahana pololei, ke kūpaʻa wela kiʻekiʻe, a me nā wahi hana maʻemaʻe loa. Ma Semixlab, hoʻolālā a hana mākou i nā ʻāpana hoʻomehana graphite maʻemaʻe kiʻekiʻe i hana kūikawā ʻia no nā kaʻina hana semiconductor koi e like me ka silicon, SiC, a me GaN epitaxy, a me ka hoʻolaha wela kiʻekiʻe a me ka oxidation. Kākoʻo ʻia e ka laulima pili me nā mea hana lako a me nā fabs, ua hoʻomohala ʻia nā hoʻonā hoʻomehana graphite a Semixlab e kākoʻo i ka hana paʻa, hana hou ʻia, a me ka hua kiʻekiʻe.
I loko o nā kaʻina hana epitaxy semiconductor, me Si, SiC, a me GaN, he kuleana koʻikoʻi ko nā mea hoʻomehana graphite i ka hoʻokumu ʻana a me ka mālama ʻana i nā kūlana wela e pono ai no ka ulu ʻana o ke kristal kiʻekiʻe. Koi ka waiho ʻana o Epitaxial i ka like ʻana o ka mahana a me ke kūpaʻa ma waena o ka ʻili wafer, ʻoiai hiki i nā ʻokoʻa wela liʻiliʻi ke hoʻopilikia pololei i ka mānoanoa o ka papa, ka hoʻolaha ʻana o ka dopant, ke ʻano o ka ʻili, a me ka nui o nā hemahema. Hoʻohana pinepine ʻia nā mea hoʻomehana graphite ma ke ʻano he kino hoʻomehana mua a i hoʻohui ʻia i loko o nā susceptors a me nā ʻaha hoʻomehana i loko o nā reactors epitaxial, e hana pono ana ma nā mahana ma mua o 1000°C no ka silicon epitaxy a hiki i 1600°C a ʻoi aku paha ma nā noi SiC. ʻO kā lākou conductivity thermal kiʻekiʻe a me ke kūpaʻa maikaʻi loa i ka haʻalulu thermal e hiki ai ke hoʻokumu ʻia nā kahua mahana paʻa a wānana ʻia, he mea koʻikoʻi no ka hana hou ʻana o ke kaʻina hana a me ka kaohi hua i ka hana nui.
No ka hana ʻana o ka semiconductor bandgap ākea, ʻo SiC a me GaN hoʻi, ua ʻike nui ʻia nā mea hoʻomehana graphite he ʻenehana hiki. Pono kēia mau mea i nā mahana hana kiʻekiʻe a me nā pōʻaiapuni thermal lōʻihi i hoʻohālikelike ʻia me ka silicon maʻamau, e kau ana i nā koi koʻikoʻi ma luna o nā mea hoʻomehana. Hana ʻia nā mea hoʻomehana graphite maʻemaʻe kiʻekiʻe o Semixlab mai nā mea maka i koho pono ʻia a me nā microstructures i hoʻomaikaʻi ʻia e hōʻoia i nā pae haumia haʻahaʻa, ka liʻiliʻi o ka outgassing, a me ke ola lawelawe lōʻihi ma lalo o ka hydrogen, vacuum, a i ʻole nā ea kinoea inert. ʻO nā uhi holomua koho, e like me SiC a i ʻole pyrolytic carbon, e hoʻonui hou i ke kūpaʻa kemika, hoʻemi i ka hana ʻāpana, a hoʻolōʻihi i ke ola hana, e kākoʻo ana i nā kūlana hoʻomaʻemaʻe koʻikoʻi o ka hana mana a me ka hana RF.
I nā kaʻina hana hoʻolaha a me ka oxidation, lawelawe nā mea hoʻomehana graphite ma ke ʻano he kumu wela paʻa a hiki ke hoʻokele ʻia i loko o nā umu wela kiʻekiʻe i hoʻohana ʻia no ka hoʻolaha ʻana o ka dopant, ka oxidation thermal, a me ka annealing. Pono kēia mau kaʻina hana i ka mana pololei ma luna o nā wikiwiki ramp mahana, ke ʻano like, a me ke kūpaʻa lōʻihi e hoʻokō ai i nā hohonu junction pololei, nā mānoanoa oxide, a me nā ʻano uila. Ke hoʻohālikelike ʻia me nā mea hoʻomehana metala, hāʻawi ka graphite i ka hiki ke kiʻekiʻe o ka mahana a me ka hoʻemi ʻana i ka pilikia o ka deformation a i ʻole ke kolo ʻana i ka wā o ka hana lōʻihi, e kōkua ana i ka hoʻomaikaʻi ʻana i ka manawa hana a me ka hoʻemi ʻana i ke kumukūʻai o ka loaʻa ʻana o ka mea hana.
Mai kahi hiʻohiʻona hoʻolālā lako, hāʻawi nā mea hoʻomehana graphite i kahi kiʻekiʻe o ka maʻalahi o ka hoʻolālā. ʻO kā lākou mīkini e ʻae i nā geometries paʻakikī, nā hoʻonohonoho hoʻomehana multi-zone, a me nā ʻano kū'ē i hoʻopilikino ʻia e hoʻokō ʻia, e hiki ai ke hoʻonohonoho pono i ka thermal i hana ʻia i nā ʻano reactor a umu paha. Hana pū ʻo Semixlab me nā mea kūʻai aku e hoʻomaikaʻi i ka hoʻolālā mea hoʻomehana e pili ana i nā koi hana, ke ʻano o ke keʻena, a me nā simulations thermal, e hōʻoiaʻiʻo ana i ka hoʻohui maikaʻi loa i nā mea hana semiconductor kahiko a me nā hanauna hou.
Hana ʻia ka mea hoʻomehana graphite a Semixlab ma lalo o nā kaohi kaʻina hana koʻikoʻi a ua nānā pono ʻia e hōʻoia i ka maʻemaʻe, ka nui, ke kū'ē uila, a me ka pololei o ka dimensional. ʻO kēia kūpaʻa i ka pono o nā mea a me ke kūlike o ka hana ʻana e kōkua i nā mea hana semiconductor e hōʻemi i ka loli o ke kaʻina hana a mālama i ka hana hana paʻa i ke ola holoʻokoʻa o ka ʻāpana. Me nā hoʻolālā hiki ke hoʻopilikino ʻia a me nā uhi holomua koho, kākoʻo nā hoʻonā hoʻomehana graphite a Semixlab i ka hana hana mau, ka hoʻomaikaʻi ʻana i ka hua, a me ka hoʻemi ʻana i ke kumukūʻai holoʻokoʻa o ka loaʻa ʻana no nā mea hana lako semiconductor a me nā fabs. Ke kakali nei mākou i ka loaʻa ʻana o kāu mau nīnau hou aku.
ko kakou Services

Hale kūʻai huahana Semixlab


EN
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ




