0200-35223 Apo Pālolo

No ke apo seramika AMAT 0200-35223 ka māhele o nā apo seramika keʻena plasma semiconductor i hoʻohui pinepine ʻia i loko o nā ʻōnaehana etch a me ka deposition holomua. Ma ke ʻano kūkulu, ua hoʻolālā ʻia ʻo ia ma ke ʻano he ʻāpana apo i hana ʻia me ka pololei i kau ʻia ma kahi kokoke i ka ʻāpana hana wafer, maʻamau a puni ka electrostatic chuck (ESC), kahi hoʻopaʻa plasma, a i ʻole ka ʻāpana hoʻololi lihi keʻena.

ʻOiai he liʻiliʻi ke ʻano, he mea nui loa kona kuleana i loko o ke keʻena. I ka wā o ka hana ʻana i ka plasma, ʻike ka ʻāpana lihi wafer i nā pilina paʻakikī ma waena o nā kahua RF, nā ala ion, a me ka hoʻolaha ʻana o ka nui o ka plasma. Me ka ʻole o ka hoʻonohonoho pono ʻana o ke keʻena, hiki i kēia mau pilina ke alakaʻi i ka paʻa ʻole o ke kaʻina hana, ka kūlike ʻole o ka ʻaoʻao lihi, a me ke ʻano etching a i ʻole ka waiho ʻana.

Hana ke apo keramika ma ke ʻano he pilina plasma-mana ma waena o ka wafer a me nā ʻano keʻena a puni. Ma ka hoʻohuli ʻana i ka hoʻolaha ʻana o ke kahua uila kūloko a me ka hoʻopaʻa ʻana i nā kūlana plasma kokoke i ka lihi wafer, kōkua ia i ka hoʻomaikaʻi ʻana i ke kūlike o ke kaʻina hana keʻena holoʻokoʻa a me ka hua wafer.

Nā Hana Koʻikoʻi o ke Apo Seramika 0200-35223

ʻO kekahi o nā hana koʻikoʻi o ka 0200-35223 Ceramic Ring ka hoʻoponopono ʻana i ka lihi plasma. I nā kaʻina hana semiconductor holomua, hiki i ka nui o ka plasma kokoke i ka lihi wafer ke hoʻopilikia nui i ka kaohi ʻana o ka nui koʻikoʻi, ke ʻano like o ka profile, a me ke kūpaʻa holoʻokoʻa o ke kaʻina hana. Kōkua ke apo keramika i ka hoʻokele ʻana i ka hoʻolaha plasma kokoke i ka ʻāpana lihi, e hōʻemi ana i nā ʻokoʻa kaʻina hana a hoʻomaikaʻi i ke ʻano like o ka wafer.

Hāʻawi pū ka ʻāpana i ka hoʻopaʻa ʻana o ke kahua RF i loko o ke keʻena. Ma muli o ka pili pono ʻana o ke ʻano plasma i ka hoʻolaha ʻana o ka impedance a me ka hoʻokumu ʻana o ka sheath, hoʻopili pololei ke ʻano geometry a me nā waiwai dielectric o ke apo keramika i ka hoʻolaha ʻana o ka ikehu ion a me ka pono o ka hoʻopili ʻana o ka plasma. ʻO kēia ka mea e hoʻolilo ai i ke apo keramika i ʻāpana keʻena RF-engineered koʻikoʻi ma mua o kahi ʻano mechanical passive.

ʻO kekahi hana koʻikoʻi ʻo ia ka pale ʻana i ke keʻena. I ka wā o ka hana plasma kiʻekiʻe-density, ua hōʻike ʻia nā paia o ke keʻena a me nā ʻāpana kokoke i ka hoʻouka kaua ʻana o ka ion a me nā ʻano plasma reactive. Hana ke apo keramika ma ke ʻano he pale pale, e hōʻemi ana i ka hōʻike pololei ʻana o ka plasma i nā ʻano keʻena koʻikoʻi a kōkua i ka hoʻolōʻihi ʻana i ke ola lawelawe o nā lako.

Eia kekahi, kākoʻo ke apo keramika i nā hoʻolālā hōʻemi ʻāpana i loko o ke keʻena. ʻO nā keramika maʻemaʻe kiʻekiʻe me nā hoʻopau ʻili i hoʻomaikaʻi ʻia e kōkua i ka hōʻemi ʻana i nā pilikia haumia e pili ana me ka sputtering, erosion, a me ka outgassing, he mea nui loa ia i nā kikowaena semiconductor holomua kahi e lilo ai ka hoʻomanawanui ʻana i nā ʻāpana i mea paʻakikī.